[实用新型]一种晶元背面光反射率测量装置有效

专利信息
申请号: 202020630052.8 申请日: 2020-12-07
公开(公告)号: CN213600580U 公开(公告)日: 2021-07-02
发明(设计)人: 姜华 申请(专利权)人: 海太半导体(无锡)有限公司
主分类号: G01N21/55 分类号: G01N21/55
代理公司: 无锡市朗高知识产权代理有限公司 32262 代理人: 赵华
地址: 214000 江苏省无锡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型的目的在于提供一种晶元背面光反射率测量装置,用于监测晶元切割前晶元背面反射能量;包括测量单元,放置台,支架,总控单元;一测量单元,包括中空壳体,设置在所述中空壳体内的积分球,设置在所述积分球外表面的激光器和光电探测器;一放置台,通过一支架固定连接在所述测量单元正下方;所述放置台两侧边缘设置有卡槽;所述放置台中部上表面设置有限位块一总控单元,包括计算机芯片和控制电路;本实用新型的有益效果为:方便对晶元背面的光反射率进行监测,有效确保晶元切割的实际能量。
搜索关键词: 一种 背面 反射率 测量 装置
【主权项】:
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