[实用新型]显影机喷嘴的清洁装置有效
| 申请号： | 202020648883.8 | 申请日： | 2020-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN212009276U | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 张佳健 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;B08B3/12 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 郭立 |
| 地址： | 201315 上海市浦东新区中国（上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供的显影机喷嘴清洁装置包括：超声波发生器，所述超声波发生器能产生超声波；第一容器，所述第一容器中用以装载第一液体，所述超声波发生器与所述第一容器的外壁连接；第二容器，所述第二容器中用以装载第二液体，所述第二液体用以容置所述显影机喷嘴；所述第二容器位于所述第一容器内部，当所述第一容器中装载所述第一液体时，所述第二容器外壁位于所述第一容器的第一液体中。据此，能够通过第二液体来清洗显影机喷嘴，超声波发生器产生的超声波能够通过第一容器、第一液体、第二容器、第二液体传递至喷嘴处，增强洗涤效果并且能够缩短洗涤时间，减少宕机时间，提高生产效率；能够避免线形缺陷的产生，提高晶片的刻蚀精度。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 喷嘴 清洁 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力集成电路制造有限公司，未经上海华力集成电路制造有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202020648883.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：易安装的高散热灯
- 下一篇：一种用于获取与直浇口有角度相连的产品的剪切工装
