[实用新型]三氯氢硅净化系统有效
| 申请号： | 202020671519.3 | 申请日： | 2020-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN212425459U | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 吴锋;张天雨;韩秀娟 | 申请（专利权）人： | 江苏鑫华半导体材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/107 | 分类号： | C01B33/107;B01D3/02;B01D3/14;B01D3/42 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 肖阳 |
| 地址： | 221004 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了三氯氢硅净化系统。该三氯氢硅净化系统包括：添加剂预处理装置，所述添加剂预处理装置具有金属单质入口、有机溶剂入口和添加剂出口；三氯氢硅预处理装置，所述三氯氢硅预处理装置具有三氯氢硅粗品入口、添加剂入口和混合物料出口，所述添加剂入口与所述添加剂出口相连；精馏装置，所述精馏装置具有物料入口和精制三氯氢硅出口，所述物料入口与所述混合物料出口相连。该三氯氢硅净化系统通过采用添加剂预处理装置、三氯氢硅预处理装置和精馏装置，可以有效除去三氯氢硅中含碳杂质，获得高纯度的三氯氢硅产品。 | ||
| 搜索关键词： | 三氯氢硅 净化系统 | ||
【主权项】：
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