[实用新型]原子层沉积装置有效
| 申请号： | 202020673168.X | 申请日： | 2020-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN212335292U | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 李哲峰;张光海 | 申请（专利权）人： | 深圳市原速光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 魏兰 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种原子层沉积装置，其中，所述原子层沉积装置包括气体分布组件和扩散槽，所述气体分布组件包括一级分流器和多个二级分流器，所述一级分流器具有第一进气孔和多个第一出气孔，每个所述二级分流器均具有第二进气孔和多个第二出气孔；所述一级分流器通过多个所述第一出气孔与多个所述二级分流器的第二进气孔一一对应连通；所述扩散槽与所述第二出气孔连通。本实用新型技术方案利用一级分流器和二级分流器连通，实现供气的同时简化原子层沉积装置结构。 | ||
| 搜索关键词： | 原子 沉积 装置 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
