[实用新型]薄膜材料沉积反应装置和薄膜材料沉积反应系统有效

专利信息
申请号: 202020673236.2 申请日: 2020-04-27
公开(公告)号: CN212077147U 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 李哲峰;张光海 申请(专利权)人: 深圳市原速光电科技有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 徐进之
地址: 518000 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开一种薄膜材料沉积反应装置,应用于薄膜材料沉积反应系统,其中,所述薄膜材料沉积反应装置包括:气体分布台,设有扩散槽,所述扩散槽的底壁设有供气孔,所述扩散槽的内壁设有限位凸台,所述气体分布台用于对膜材表面进行原子层沉积;扩散板,抵接限位于所述限位凸台,并与所述扩散槽的底壁围合形成扩散腔,所述扩散板开设有间隔设置的多个扩散孔,所述供气孔和多个所述扩散孔与所述扩散腔连通。本实用新型提出的薄膜材料沉积反应装置能够提升膜材表面沉积的原子沉积膜的均匀性。
搜索关键词: 薄膜 材料 沉积 反应 装置 系统
【主权项】:
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