[实用新型]一种原位底部阻隔结构、半阻隔、阻隔及排液系统有效

专利信息
申请号: 202020822245.3 申请日: 2020-05-15
公开(公告)号: CN212248389U 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 谷亮 申请(专利权)人: 谷亮
主分类号: E02D31/00 分类号: E02D31/00
代理公司: 四川力久律师事务所 51221 代理人: 王波
地址: 611130 四川省成都市温江*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型涉及防渗工程技术领域,特别是一种原位底部阻隔结构、半阻隔、阻隔及排液系统,原位底部阻隔结构包括底部防渗结构,底部防渗结构包括至少一层防渗层,防渗层位于既有待处理物下方,防渗层包括施工通道,防渗层被配置为:所述防渗层为通过向施工通道内灌注的或高压旋喷的防渗浆液,与周边的土层和/或岩体所固化成型为一体的层状结构体。本申请的一种原位底部阻隔结构,在不挠动待处理物的前提下,设置防渗层,能有效隔绝防渗层内外物质的交换,特别是液相物质的交换,底部防渗结构起到阻止外界水进入既有待处理物内部,以及阻止既有待处理物内的液相物质向底部防渗结构外扩散的目的。
搜索关键词: 一种 原位 底部 阻隔 结构 系统
【主权项】:
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