[实用新型]一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置

摘要

本实用新型公开了一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置，真空腔体、收放卷系统、真空获得系统以及磁控溅射区，在空腔体内设有呈圆弧形排布的靶极；靶极向待加工基材做功完成磁控溅射，靶极向待加工基材做功完成磁控溅射的区域是磁控溅射区；在真空腔体内设置收放卷系统，收放卷系统包括第一收放卷轴、第二收放卷轴、主动辊，调节辊包括导向辊、张力辊、展平辊，其中第一收放卷轴、第二收放卷轴位于真空腔体内趋向于真空腔体顶部的位置；在第一收放卷轴与主动辊之间以及在第二收放卷轴主动辊之间分别排布有一组调节辊，靶极与进入磁控溅射区的待加工基材的待加工面之间形成磁控溅射通道。本实用新型提高了镀膜的密度以及基材成品的屏蔽导通强度。