[实用新型]基片寻边装置和光刻系统有效
| 申请号： | 202020862719.7 | 申请日： | 2020-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN212256006U | 公开（公告）日： | 2020-12-29 |
| 发明（设计）人： | 李华;汪光文;王晓军;王殿辉 | 申请（专利权）人： | 上海探跃半导体设备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 200000 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型实施例公开了一基片寻边装置和光刻系统，该基片寻边装置基于NIKON I8光刻机进行改进，该基片寻边装置包括：载片台，用于承载基片；反射式传感器，固定于所述载片台的承载面侧；所述反射式传感器用于探测所述载片台上是否存在基片。本实用新型实施例提供的基片寻边装置，在NIKON I8光刻机的基础上，改对射式寻边为反射式寻边，以实现对透明衬底和非透明衬底的有效寻边。 | ||
| 搜索关键词： | 基片寻边 装置 光刻 系统 | ||
【主权项】：
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