[实用新型]一种双抛机载具清洗设备有效

专利信息
申请号: 202020969129.4 申请日: 2020-06-01
公开(公告)号: CN212494301U 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 祝斌;刘姣龙;裴坤羽;武卫;刘建伟;刘园;孙晨光;王彦君;由佰玲;常雪岩;杨春雪;谢艳;刘秒;张宏杰;吕莹;徐荣清 申请(专利权)人: 天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12;B08B3/10;B08B3/08;B08B13/00;H01L21/67;B24B29/02;B24B41/06
代理公司: 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213 代理人: 栾志超
地址: 300384 天津市滨海*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型提供一种双抛机载具清洗设备,至少具有用于清洗所述载具的清洗单元、用于承载并控制所述载具移动的升降单元、用于加速清洗的超声单元和用于控制所述清洗单元和所述升降单元运行的控制单元,其中,所述升降单元被置于所述清洗单元一侧并使所述载具被置入所述清洗单元或从所述清洗单元中被移出;所述超声单元分设于所述清洗单元内侧和外侧;所述清洗单元、所述升降单元和所述超声单元均与所述控制单元连接。本实用新型提出的清洗设备,尤其是对半导体硅片双面抛光用承载装置的清洗,解决了如何自动清洗双抛机载具表面形成的SiO2结晶颗粒的技术问题,不仅可提高半导体硅片抛光质量、提高使用寿命,清洗效果好且清洗效率高。
搜索关键词: 一种 机载 清洗 设备
【主权项】:
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