[实用新型]一种可调节的工艺腔室终点检测探头的固定装置

摘要

本实用新型涉及一种可调节的工艺腔室终点检测探头的固定装置，属于半导体工艺设备领域。其主反应腔的上端设有腔盖，主反应腔的腔内底部设有电极组件，电极组件的下方设有顶针升降机构，电极组件上放置晶圆；腔盖的上部设有耦合窗，耦合窗内设置进气喷嘴，进气喷嘴位于电极组件的正上方；耦合窗上设有线圈，线圈与射频匹配器相连；其特征在于：位于主反应腔的侧壁开设有通孔，通孔外侧设有观察窗，位于主反应腔的外侧壁设有用于放置探头及调节探头角度的调节座。本实用新型可以实现快捷简单的探头位置调节，包括探头光线相对于wafer上表面的距离调节，还有光线相对于wafer平面的入射角度的调节，操作方便高效，调节范围很广。