[实用新型]用于电路板的镀锡装置有效
申请号: | 202020998611.0 | 申请日: | 2020-06-04 |
公开(公告)号: | CN213203198U | 公开(公告)日: | 2021-05-14 |
发明(设计)人: | 赵玲 | 申请(专利权)人: | 昆山大唐电子有限公司 |
主分类号: | C23C18/31 | 分类号: | C23C18/31;B65G17/12 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215341 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型属于电路板制造领域,具体为一种用于电路板的镀锡装置,包括镀锡机构,所述镀锡机构包括镀锡槽、加热器,所述镀锡槽内侧底部设有所述加热器,所述镀锡机构上设有升降机构,所述升降机构上设有传送机构,所述升降机构包括伸缩气缸支座、伸缩气缸、伸缩杆,所述镀锡槽底部安装在所述伸缩气缸的伸缩端,所述伸缩气缸通过所述伸缩气缸支座支撑,所述镀锡槽底端面且位于所述伸缩气缸支座两侧均焊接有所述伸缩杆,所述传送机构包括底板、输送机支架、输送机、连接座、支板。本实用新型采用传送机构和镀锡机构等,从而可以快速装卸多个电路板,并且可以装卸电路板和镀锡同时进行,这样提高了镀锡效率。 | ||
搜索关键词: | 用于 电路板 镀锡 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
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