[实用新型]一种用于光刻机的光子数量控制器有效

专利信息
申请号: 202021012157.3 申请日: 2020-06-05
公开(公告)号: CN212460307U 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 张玥 申请(专利权)人: 张玥
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 沈阳科威专利代理有限责任公司 21101 代理人: 胡野
地址: 110000 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型公开了一种用于光刻机的光子数量控制器及含有其的光刻机,所述光子数量控制器包括由耐高温的非波导材料制成的基板,在基板上设置一孔径极小的通光孔,在通光孔的一侧设置有光致发光体,通光孔内设置有由多根纳米管构成的纳米管束。所述光刻机,包括激光器和光束矫正器,其特征在于,在激光器和光束矫正器之间设置有光子数量控制器。本实用新型结构中,通过光致发光体吸收并再次激发形成的极紫外光光子再通过纳米管束的引导及分流作用,形成多条极细的光束输送至物镜用于进行刻蚀。纳米管的管径小,且直线度好,且多个纳米管形成的管束具备分流作用,从而使光束的集中度好,进而提高刻蚀的精度。
搜索关键词: 一种 用于 光刻 光子 数量 控制器
【主权项】:
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