[实用新型]镀膜装置以及镀膜设备有效
申请号: | 202021076645.0 | 申请日: | 2020-06-12 |
公开(公告)号: | CN211112215U | 公开(公告)日: | 2020-07-28 |
发明(设计)人: | 李时俊;余仲;陈麒麟;卢贤政 | 申请(专利权)人: | 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/24;C23C16/458;H01L31/18 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 林明校 |
地址: | 518118 广东省深圳市坪山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了镀膜装置(100)以及镀膜设备(300),其中,镀膜装置(100)可用于在热丝化学气相沉积法中对基板(205)进行镀膜,具有用于对基板(205)进行镀膜的镀膜腔(110),镀膜腔(110)内间隔地设置有三个以上具有热丝的镀膜部(120),相邻的两个镀膜部(120)之间,容许单块基板(205)流过,且相邻的两个镀膜部(120)设置为分别对流过它们之间的基板(205)的与其相对的一面进行镀膜。本实用新型的镀膜装置(100),能够实现在同一个镀膜腔(110)内对基板(205)的两面进行镀膜。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 装置 以及 设备 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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