[实用新型]一种等离子体增强化学气相沉积设备

摘要

本实用新型提供一种等离子体增强化学气相沉积设备。本实用新型提供的等离子体增强化学气相沉积设备，包括反应腔，还包括设置在反应腔内的第一电极、第二电极和遮蔽框组件，第一电极的上表面具有承载区，待沉积薄膜的基板放置于承载区上，遮蔽框组件覆盖第一电极的位于基板外围的区域，且遮蔽框组件的内缘伸入至基板和第一电极之间，第二电极对应设置在第一电极的上方。本实用新型的等离子体增强化学气相沉积设备，能够减小成膜区域的局限性，满足产品的窄边框化发展需求。