[实用新型]一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构有效
| 申请号： | 202021185969.8 | 申请日： | 2020-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN212846349U | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 许志雄 | 申请（专利权）人： | 芯米（厦门）半导体设备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/16 |
| 代理公司： | 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 | 代理人： | 吴圳添 |
| 地址： | 361000 福建省厦门市火炬*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构，其结构包括收集斗、支撑脚、出料口、控制按钮、电源线和开合机构，本实用新型的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构，通过在出料口底部设置了开合机构，按动控制按钮使汽缸底部向上收缩，汽缸带动连接条以连接轴中部为支点转动，连接条带动连接轴在支撑块内侧转动，连接轴通过连接块和连接板带动第二挡板左侧向下转动，第二挡板通过合页使第一挡板带动滑轮在滑道处向右滚动，当第一挡板和第二挡板呈打开状态时，收集斗内储存的废弃光刻胶从出料口落入盛放容器中，便于后续回收再利用，提高了光刻胶回收利用的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 防止 污染 光刻 收集 结构 | ||
【主权项】：
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