[实用新型]一种激光曝光系统有效
| 申请号： | 202021189346.8 | 申请日： | 2020-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN212623566U | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 胥涛棚;李伟成;张雷 | 申请（专利权）人： | 苏州源卓光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215026 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种曝光系统，其包括光源，其还包括激光选束模块、光束转换模块、光束整形模块、阵列偏转模块和控制系统，所述控制系统控制所述激光选束模块、所述光束转换模块、光束整形模块和阵列偏转模块，所述光源发出的光线通过激光选束模块形成一维线阵光束，所述一维线阵光束通过所述光束转换模块形成二维面阵列光束，所述二维面阵光束通过所述光束整形模块和所述阵列偏转模块聚焦至待曝光基板的相应位置。本发明通过光束转换模块、光束整形模块、阵列偏转模块实现了从点光源到二维光束的转换，可以通过控制系统对相应部件的控制实现大范围的曝光，提高曝光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 曝光 系统 | ||
【主权项】：
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