[实用新型]一种用于高纯钌靶制备的真空热压炉有效
申请号: | 202021190767.2 | 申请日: | 2020-06-24 |
公开(公告)号: | CN212533104U | 公开(公告)日: | 2021-02-12 |
发明(设计)人: | 王永超;赵泽良 | 申请(专利权)人: | 河南东微电子材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;B22F3/14 |
代理公司: | 郑州浩翔专利代理事务所(特殊普通合伙) 41149 | 代理人: | 孔丽丽 |
地址: | 450000 河南省郑州市航空港区新港大*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种用于高纯钌靶制备的真空热压炉,包括真空热压炉本体,所述真空热压炉本体底座上设有固定轴,所述真空热压炉本体内设有模槽,所述模槽内插设有模具,所述模槽的顶面和底部上均插设有柱形水冷组件本体,所述模具的上下两端分别与两个柱形水冷组件本体相抵接触。本实用新型通过橡胶制品的圆形块配合圆形插槽内的环形密封圈对柱形水冷组件本体提供防护,延长柱形水冷组件本体的使用寿命,通过伺服电机带动螺纹杆转动,使其带动螺纹套接的升降块在连接杆上滑块和滑槽的限位作用下进行升降,并配合圆形套筒带动压紧杆抵住柱形水冷组件本体后配合固定轴压紧模具,代替人工手动操作,省时省力。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 高纯 制备 真空 热压 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河南东微电子材料有限公司,未经河南东微电子材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202021190767.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类