[实用新型]一种气相沉积装置有效
申请号: | 202021265099.5 | 申请日: | 2020-07-01 |
公开(公告)号: | CN212770940U | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 康品春;冯国进;柴忻;章俞之;蒋淑恋;郑鹏;阮育娇;周萍;黄艺滨;崔潼 | 申请(专利权)人: | 厦门市计量检定测试院 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/44 |
代理公司: | 深圳市博锐专利事务所 44275 | 代理人: | 任芹玉 |
地址: | 361000 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种气相沉积装置,包括进气总管、反应管、加热机构、支撑台和用于输送常温保护气的水相冷却进气机构;加热机构装设于支撑台上,反应管穿过加热机构设置;反应管的进气端与进气总管连通,反应管的出气端与一排气机构可拆卸连接,以使被催化样品能够从反应管的出气端置入反应管中;进气总管远离反应管的一端分别通过第一进气管、第二进气管和第三进气管与不同的气体输送机构连通,分别用于为反应管输送碳源气体、还原性气体和保护气;水相冷却进气机构与进气总管连通;水相冷却进气机构的出气端位于第三进气管与反应管间,水相冷却进气机构的进气端位于进气总管下方。本实用新型可提高碳纳米管的强度。 | ||
搜索关键词: | 一种 沉积 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的