[实用新型]一种稳态磁场辅助的激光微抛光设备有效
| 申请号： | 202021303474.0 | 申请日： | 2020-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN212885717U | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | 肖海兵;周泳全;张卫;刘明俊;靳京城;陈吉祥 | 申请（专利权）人： | 深圳信息职业技术学院 |
| 主分类号： | B23K26/352 | 分类号： | B23K26/352;B23K26/70 |
| 代理公司： | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人： | 张全文 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请适用于激光抛光技术领域，提供了一种稳态磁场辅助的激光微抛光设备，包括柜体、连接柜体的工作台、连接工作台的电控永磁组件、能够向电控永磁组件发射激光的激光发生装置、能够产生包围待加工的工件的惰性气体的气路装置、用于对激光发生装置进行散热的降温装置和用于控制电控永磁组件、激光发生装置、气路装置和降温装置的控制设备；控制设备能够控制电控永磁组件的充磁和退磁。电控永磁组件充磁，工件即被牢牢吸附，工件拆装方便快捷；电控永磁组件无需实时通电，节能且不会因停电失磁；电控永磁组件充磁和退磁的过程中的磁吸附力均匀变化，工件位置不会发生变化；电控永磁组件的稳态磁场可以辅助激光抛光，能够抑制抛光层表面的波纹。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 稳态 磁场 辅助 激光 抛光 设备 | ||
【主权项】：
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