[实用新型]一种用于大功率半导体的清洗装置有效
| 申请号： | 202021321963.9 | 申请日： | 2021-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN212944438U | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 刘玉 | 申请（专利权）人： | 南京飞舟科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/02 | 分类号： | B08B7/02;B08B3/02;B08B3/08;F26B21/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 南京禾易知识产权代理有限公司 32320 | 代理人： | 师自春 |
| 地址： | 211100 江苏省南京市江宁区福*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于大功率半导体的清洗装置，涉及半导体技术领域，为解决现有技术中的半导体清洗后很容易引入新的污染源的问题。所述第二清理室的内部安装有环形超声波发生器，且环形超声波发生器与第二清理室固定连接，所述第二清理室的下方安装有输料筒，且输料筒与第二清理室固定连接，所述输料筒的下方设置有第二盛料皿，且第二盛料皿与清洗箱滑动连接，所述清洗箱的内部分别设置有第一清理室和烘干室，所述第二清理室、第一清理室和烘干室的下方均安装有支柱，且第二清理室、第一清理室和烘干室均与支柱固定连接，所述支柱与清洗箱固定连接。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 大功率 半导体 清洗 装置 | ||
【主权项】：
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