[实用新型]一种用于高速ADC中的输入缓冲器有效

专利信息
申请号: 202021364216.3 申请日: 2020-07-13
公开(公告)号: CN212258935U 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 王玉军;胡俊超 申请(专利权)人: 成都泰格微波技术股份有限公司
主分类号: H03K19/0185 分类号: H03K19/0185
代理公司: 成都巾帼知识产权代理有限公司 51260 代理人: 邢伟
地址: 610000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种用于高速ADC中的输入缓冲器,包括两层叠置的输入缓冲结构;第一层输入缓冲结构包括第一MOS晶体管、第一电容、第二MOS晶体管、第二电容、第三MOS晶体管和第三电容;第二层输入缓冲结构包括第四MOS晶体管、第四电容、第五MOS晶体管、第五电容、第六MOS晶体管和第六电容。本实用新型提供了一种用于高速ADC中的输入缓冲器,在输入缓冲器的上下两层,采用叠置的cascode(共源共栅)晶体管来有效增大等效输出阻抗,进而增加增益和SFDR(无杂散动态范围);本申请理论上可以接受很大范围电平的片外输入信号,因此可以大大增加端接阻抗电路的设计自由度。
搜索关键词: 一种 用于 高速 adc 中的 输入 缓冲器
【主权项】:
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