[实用新型]一种土岩二元基坑中明暗挖结合地下结构有效

专利信息
申请号: 202021365253.6 申请日: 2020-07-13
公开(公告)号: CN213597034U 公开(公告)日: 2021-07-02
发明(设计)人: 李隆平;雷文革;李良军;马永超;王天水;黄德钦;王洪华;冯景太;蔡宝占;廖恺华 申请(专利权)人: 中铁大桥勘测设计院集团有限公司
主分类号: E02D29/05 分类号: E02D29/05;E02D17/04;E21D9/14;E21D20/02;E21D11/00
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 吴静
地址: 430056 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型属于地下工程技术领域,涉及一种土岩二元基坑中明暗挖结合地下结构,包括明挖围护结构、明挖部分主体结构和暗挖部分横扩结构;明挖围护结构的底部伸入土岩二元基坑的微风化岩层内,明挖围护结构内施工有明挖部分主体结构;明挖部分主体结构最下面一层的侧墙外侧的微风化岩层坑壁横向扩挖形成横向扩挖地下空间,横向扩挖地下空间内施工有暗挖部分横扩结构;明挖部分主体结构最下面的一层与暗挖部分横扩结构横向连通。本实用新型在明挖部分主体结构施工后,对明暗挖结合部位进行横向扩挖施工暗挖部分横扩结构,暗挖部分横扩结构处于地质条件好的微风化岩层内,使横向扩挖的风险可控,且横向扩挖可多个工作面同时施工,大大提高施工效率。
搜索关键词: 一种 二元 基坑 明暗 结合 地下 结构
【主权项】:
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