[实用新型]一种高雾度抗刮全光谱增亮膜制造装置有效

专利信息
申请号: 202021375180.9 申请日: 2020-07-14
公开(公告)号: CN212768954U 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 汪霞 申请(专利权)人: 深圳市维菱科技有限公司
主分类号: B65H35/00 分类号: B65H35/00;B65H35/06;B65H23/16
代理公司: 重庆市诺兴专利代理事务所(普通合伙) 50239 代理人: 刘兴顺
地址: 518000 广东省深圳市光明区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种高雾度抗刮全光谱增亮膜制造装置,包括机架和输送带,所述输送带前后侧对称设置有两组机架,且所述输送带中部上方设置有承托板,所述承托板底部四角均设置有连接所述机架的支杆,所述承托板顶部设置有气缸,且所述承托板下方的所述支杆上竖向滑动设置有加工组件。有益效果在于:本实用新型通过设置增亮膜定位裁切结构,在切刀裁切之前预先将裁断位置两侧压紧定位,避免增亮膜鼓起变形影响裁切精度,裁切位置平整度更好,同时将增亮膜裁断后驱动切刀上移,确保切刀与增亮膜分离过程中防护板仍对增亮膜进行下压定位,避免增亮膜裁切位置跟随切刀上升引起的弯曲翘边问题,保证产品质量,实用性强。
搜索关键词: 一种 高雾度抗刮全 光谱 增亮膜 制造 装置
【主权项】:
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