[实用新型]一种防电弧基座有效

专利信息
申请号: 202021402611.6 申请日: 2020-07-16
公开(公告)号: CN212741526U 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 余波;陶源;蔡广云;车午秉 申请(专利权)人: 合肥微睿光电科技有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;C23C16/50
代理公司: 合肥超通知识产权代理事务所(普通合伙) 34136 代理人: 余红
地址: 230000 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型公开了一种防电弧基座,包括有金属基座和玻璃基板,金属基座上围绕玻璃基板四周设有环形台阶,环形台阶的台阶面上分别设有首尾相对的多个绝缘条块,每个绝缘条块与环形台阶在相对的一侧之间分别具有间隙,相邻二个绝缘条块之间具有间隙;环形台阶的台阶面上分别设有多组定位孔,多组定位孔分别与多个绝缘条块一一对应,多个绝缘条块的底端分别固定连接有对应插入各组定位孔内的定位销柱,定位销柱分别通过弹性卡接件卡接在所在的定位孔内。本实用新型在金属基座的四周设置环形台阶,并在环形台阶上设置多个绝缘条块,在实施薄膜沉积的工艺过程中能够防止电弧的产生,保证了薄膜沉积工艺的正常进行,保障了安全生产。
搜索关键词: 一种 电弧 基座
【主权项】:
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