[实用新型]一种抛光设备抛光液循环的防溅装置有效
申请号: | 202021418779.6 | 申请日: | 2020-07-17 |
公开(公告)号: | CN213225744U | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 高令;谭志强;李叶明;张红超;张建国 | 申请(专利权)人: | 深圳西可实业有限公司 |
主分类号: | B24B57/00 | 分类号: | B24B57/00;B24B55/00;B24B29/02 |
代理公司: | 深圳信科专利代理事务所(普通合伙) 44500 | 代理人: | 吴军 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道浪*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种抛光设备抛光液循环的防溅装置,包括:固定轴套、挡水圈、下水槽和扫光盘垫板,所述下水槽套设在所述固定轴套上,并与所述扫光盘垫板连接,所述挡水圈设置在所述下水槽上。本实用新型提供的抛光设备抛光液循环的防溅装置通过挡水圈和下水槽的设置,解决下水槽在高速旋转时,抛光液隔空流入下水槽容易发生外溅的问题,成本低,安装方便,缩短设备的维护与清洁时间,延长设备使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 一种 抛光 设备 循环 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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