[实用新型]一种等离子体处理装置有效

专利信息
申请号: 202021431098.3 申请日: 2020-07-20
公开(公告)号: CN212182268U 公开(公告)日: 2020-12-18
发明(设计)人: 连增迪;左涛涛;吴狄;倪图强 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 上海元好知识产权代理有限公司 31323 代理人: 徐雯琼;章丽娟
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开一种等离子体处理装置,反应腔内设置基座,用于向反应腔内输送气体的气体供应装置包含气体总管道和多路气体分流输送管路,气体总管道上设置一前端压力传感器,每路气体分流输送管路上分别设置一流量控制阀和一后端压力传感器,后端压力传感器用于监测该路气体分流输送管路上流量控制阀输出端的压力,流量控制阀通过调节自身阀开度控制该路分流输送管路上的气体流量,并保证前端压力传感器测得的压力值大于或等于任一后端压力传感器测得的压力值的两倍。本实用新型的多路气体分流输送管路能准确地按照比例向反应腔内输送反应气体;能实现1分2路、1分3路甚至1分更多路;流量控制速度快、控制结果准确,结构简单,成本低。
搜索关键词: 一种 等离子体 处理 装置
【主权项】:
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