[实用新型]一种用于半导体零部件的无溶剂清洗设备有效

专利信息
申请号: 202021435406.X 申请日: 2020-07-20
公开(公告)号: CN213223439U 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 陈如明;陈彩丽;曾玉帆;卜庆磊;杨子健 申请(专利权)人: 英迪那米(徐州)半导体科技有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B13/00
代理公司: 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 代理人: 徐小淇
地址: 221600 江苏省徐*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种用于半导体零部件的无溶剂清洗设备,包括清洗箱、加热装置、清洗喷枪及零件固定装置,加热装置设于清洗箱的底部,清洗喷枪的喷嘴指向零件固定装置,零件固定装置设于加热装置的上方,零件固定装置包括轴座、丝杠、滑台、第一驱动电机、第二驱动电机及夹紧机构,轴座固定安装在清洗箱的底部,丝杠安装在轴座内,第一驱动电机带动丝杠旋转,滑台安装在丝杠上,滑台的顶面设有工作台,第二驱动电机及夹紧机构均固定设于工作台的顶面,夹紧机构通过两根立柱铰接设置零件框,且被第二驱动电机驱动,零件框内设有夹紧件可夹紧零件。本实用新型属于半导体清洗技术领域,与现有技术相比的优点在于:零件不易脱落、清洁效果优良。
搜索关键词: 一种 用于 半导体 零部件 溶剂 清洗 设备
【主权项】:
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