[实用新型]高屏蔽性电磁波屏蔽膜有效

专利信息
申请号: 202021439640.X 申请日: 2020-07-20
公开(公告)号: CN213152758U 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 黄松建;张裕洋;刘修铭 申请(专利权)人: 位元奈米科技股份有限公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 张燕华
地址: 中国台湾桃园市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种高屏蔽性电磁波屏蔽膜,该电磁波屏蔽膜包括:一第一离型膜、一绝缘层、一复合金属层、一导电粘着层及一第二离型膜。该绝缘层设于该第一离型膜的一侧表面上。该复合金属层设于该绝缘层的一侧表面上。该导电粘着层设于该复合金属层的一侧表面上。该第二离型膜设于该导电粘着层的一侧表面上。其中,该电磁波屏蔽膜具有电气特性好、抗化性佳、屏蔽性能高、接着强度佳、传输损失少、传输品质高、吸水率低、信赖度佳等特性,相较一般的电磁屏蔽膜具有更高的可靠度以及操作性,从而取代一般屏蔽膜。
搜索关键词: 屏蔽 电磁波
【主权项】:
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