[实用新型]一种有源-无源噪声整形逐次逼近ADC有效

专利信息
申请号: 202021448729.2 申请日: 2020-07-21
公开(公告)号: CN212435678U 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 徐卫林;翁浩然;周茜;韦雪明;段吉海;韦保林 申请(专利权)人: 桂林电子科技大学
主分类号: H03M1/38 分类号: H03M1/38
代理公司: 桂林市持衡专利商标事务所有限公司 45107 代理人: 陈跃琳
地址: 541004 广西*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 实用新型公开一种有源‑无源噪声整形逐次逼近ADC,包括DAC电容阵列DAC1和DAC2、有源‑无源噪声整形模块(包括无源积分器PINT1和正反馈有源‑无源积分器APINT2)、六输入比较器COMP、逐次逼近逻辑模块SAR、时钟生成模块CKG、基准电压生成模块BGVG。本实用新型在有源‑无源噪声整形模块中使用最简单的MOS晶体管共源级结构,使低增益有源放大器和正反馈相结合,仅消耗几十微瓦便可获得良好的噪声整形特性,能在传统逐次逼近ADC基础上提升有效位数超过5位。该实用新型可用于低功耗、高精度的模数转换场景,例如生物医学信号采集,高精度仪表设计等领域,具有良好的应用前景。
搜索关键词: 一种 有源 无源 噪声 整形 逐次 逼近 adc
【主权项】:
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