[实用新型]一种曝光机真空曝光室有效
申请号: | 202021457739.2 | 申请日: | 2020-07-22 |
公开(公告)号: | CN212229414U | 公开(公告)日: | 2020-12-25 |
发明(设计)人: | 杨中 | 申请(专利权)人: | 深圳德尚自动化设备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 深圳市鼎智专利代理事务所(普通合伙) 44411 | 代理人: | 汤银 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种曝光机真空曝光室,包括机箱,所述机箱的底端外壁固定连接有基座,且机箱的顶部外壁固定连接有曝光仓,所述曝光仓的一侧外壁对称设有室门,且曝光仓的顶部外壁固定连接有上盖板,所述曝光仓的两侧外壁中部均设有连接仓门,且连接仓门的上方固定连接有电控箱,所述机箱的内壁中部上设有内曝光箱,且机箱的四侧内壁均固定连接有调节电机。本实用新型的内部设有多个真空度检测器,用于检测室腔内的真空环境度,提高曝光室中的曝光效果受到的影响最小,中部曝光灯和四边的边投射曝光灯配合,同时边部曝光灯通过边聚光组件作用,提高曝光面板的投射效果,电机调节实现曝光面板的投光角度和效果,提升曝光平面效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 曝光 真空 | ||
【主权项】:
暂无信息
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