[实用新型]一种曝光机真空曝光室有效

专利信息
申请号: 202021457739.2 申请日: 2020-07-22
公开(公告)号: CN212229414U 公开(公告)日: 2020-12-25
发明(设计)人: 杨中 申请(专利权)人: 深圳德尚自动化设备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 深圳市鼎智专利代理事务所(普通合伙) 44411 代理人: 汤银
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种曝光机真空曝光室,包括机箱,所述机箱的底端外壁固定连接有基座,且机箱的顶部外壁固定连接有曝光仓,所述曝光仓的一侧外壁对称设有室门,且曝光仓的顶部外壁固定连接有上盖板,所述曝光仓的两侧外壁中部均设有连接仓门,且连接仓门的上方固定连接有电控箱,所述机箱的内壁中部上设有内曝光箱,且机箱的四侧内壁均固定连接有调节电机。本实用新型的内部设有多个真空度检测器,用于检测室腔内的真空环境度,提高曝光室中的曝光效果受到的影响最小,中部曝光灯和四边的边投射曝光灯配合,同时边部曝光灯通过边聚光组件作用,提高曝光面板的投射效果,电机调节实现曝光面板的投光角度和效果,提升曝光平面效果。
搜索关键词: 一种 曝光 真空
【主权项】:
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