[实用新型]多晶硅还原炉及多晶硅生产系统有效
| 申请号： | 202021481982.8 | 申请日： | 2020-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN212712771U | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 施光明;李宇辰;王琳;韩玲;杨月龙;童占忠;郭光伟;何乃栋;陈宏博 | 申请（专利权）人： | 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/03 | 分类号： | C01B33/03 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 张伟 |
| 地址： | 810007 青海*** | 国省代码： | 青海;63 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种多晶硅还原炉及多晶硅生产系统，涉及多晶硅还原炉结构技术领域，为解决现有技术中存在多晶硅还原炉仅能够位于固定位置进行装载、反应以及卸料等步骤，导致产料、原料以及废料之间不能够充分隔离，容易出现相互掺杂污染的问题而设计。本实用新型提供的多晶硅还原炉，包括钟罩、底盘、电极以及滚轮。钟罩罩设于底盘，并形成用于生产多晶硅的反应腔，电极的一端穿入底盘并延伸至反应腔，且电极由外部电源供电；滚轮转动连接于底盘的底部。本实用新型还提供一种多晶硅生产系统，包括上述的多晶硅还原炉。 | ||
| 搜索关键词： | 多晶 还原 生产 系统 | ||
【主权项】：
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