[实用新型]微波等离子体化学气相沉积装置有效

专利信息
申请号: 202021593746.5 申请日: 2020-08-04
公开(公告)号: CN212505057U 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 牛进毅;苗岱 申请(专利权)人: 山西云矽电子科技有限公司
主分类号: C23C16/27 分类号: C23C16/27;C23C16/44;C23C16/511
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 刘长春
地址: 030000 山西省太原市小店区康宁街康宁大厦(山西国际*** 国省代码: 山西;14
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及一种微波等离子体化学气相沉积装置,包括:波导装置;反应腔,设置在所述波导装置下方,与所述波导装置连接;冷却罩,与所述反应腔连接,用于对所述反应腔进行风冷散热;屏蔽罩,围设在所述反应腔外部,以防止所述反应腔内的电磁辐射泄漏;旋转升降机构,所述旋转升降机构与所述反应腔内设置的生长平台连接,以实现所述生长平台在所述反应腔内做直线运动和旋转运动。本实用新型的微波等离子体化学气相沉积装置,可以为化学气相沉积工艺提供稳定的生长平台,避免了金刚石膜出现生长不均匀的现象。
搜索关键词: 微波 等离子体 化学 沉积 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山西云矽电子科技有限公司,未经山西云矽电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202021593746.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top