[实用新型]微波等离子体化学气相沉积装置用风冷屏蔽机构有效

专利信息
申请号: 202021593818.6 申请日: 2020-08-04
公开(公告)号: CN213507192U 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 任泽阳;张金风;王东;吴勇;袁珂;陈军飞;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学芜湖研究院
主分类号: C23C16/511 分类号: C23C16/511;C23C16/27
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 刘长春
地址: 241000 安徽省芜湖市弋江区高*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型涉及一种微波等离子体化学气相沉积装置用风冷屏蔽机构,包括:连接的冷却罩和屏蔽罩,其中,所述冷却罩位于反应室的上方,用于对所述反应室进行风冷散热;所述屏蔽罩围设在所述反应室外部,以防止所述反应室内的电磁辐射泄漏。本实用新型的微波等离子体化学气相沉积装置用风冷屏蔽机构,设置有用于对反应室进行风冷散热的冷却罩,以及防止反应室内的电磁辐射泄漏的屏蔽罩,在采用MPCVD法制备金刚石膜的过程中,可以避免由于反应室不能及时冷却以及反应室内的电磁辐射泄漏,而造成的成膜效果不理想的问题。
搜索关键词: 微波 等离子体 化学 沉积 装置 风冷 屏蔽 机构
【主权项】:
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