[实用新型]一种可适时调节磁场角度的孪生旋转溅射阴极装置有效
| 申请号： | 202021643957.5 | 申请日： | 2020-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN212316234U | 公开（公告）日： | 2021-01-08 |
| 发明（设计）人： | 靳伟;陈建飞;董黄华 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人： | 周宇凡 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种可适时调节磁场角度的孪生旋转溅射阴极装置，其特征在于：包括外部旋转阴极装置和内部旋转磁棒装置，其中所述内部旋转磁棒装置包括磁棒及与所述磁棒独立连接的磁棒旋转控制装置，所述磁棒旋转控制装置连接驱动所述磁棒旋转，所述外部旋转阴极装置包括套设在所述磁棒外围的靶管及与所述靶管相连接的靶管旋转控制装置，所述靶管旋转控制装置连接驱动所述靶管旋转。本实用新型的优点是：1)在旋转阴极结构中加入了磁棒的旋转，实现靶材的保护及成膜均匀性的控制；2)成膜工艺变得更加灵活；3)有效的解决了平行于阴极方向有曲度的工件的膜层的均匀沉积问题；4)有效的解决了预溅射问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适时 调节 磁场 角度 孪生 旋转 溅射 阴极 装置 | ||
【主权项】：
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