[实用新型]一种光刻系统及其基片交接系统有效
| 申请号： | 202021673938.7 | 申请日： | 2020-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN212433581U | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 刘栋;胡传武;张雷;李伟成 | 申请（专利权）人： | 苏州源卓光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215026 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种光刻系统及其基片交接系统，所述光刻系统包括对位机构、曝光机构和工作台，所述工作台包括至少两个容置槽，所述容置槽用于承载基片，所述对位机构用于对置于所述容置槽的基片进行对位处理，所述曝光机构对置于所述容置槽的基片进行直写曝光处理。所述基片交接系统包括片库、预处理台、中转台、上片机械手、中转机械手，所述上片机械手在所述片库、所述预处理台和所述中转台之间转移基片，所述中转台放置对应于所述工作台放置预处理完成的基片，所述中转机械手同时抓取预处理完成的基片放置于所述工作台。提高曝光，率使整个光刻系统的运行效率达到最大化，显著提高了光刻系统的产能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 系统 及其 交接 | ||
【主权项】：
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