[实用新型]一种研磨机下研磨盘用静压回转支撑装置有效
申请号: | 202021681486.7 | 申请日: | 2020-08-12 |
公开(公告)号: | CN213616032U | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | 戴鑫辉;李林;乔石;姚欢;吕勋恩 | 申请(专利权)人: | 青岛高测科技股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34 |
代理公司: | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人: | 于晶晶 |
地址: | 266114 山东省青*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型公开一种研磨机下研磨盘用静压回转支撑装置,其包括用于设置下研磨盘的旋转工件、设置于旋转工件下方的静压转台、设置在静压转台下用于承接静压油的回流盘、及穿过静压转台及回流盘与旋转工件连接的转轴,所述静压转台包括上工作面与下固定面,所述静压油通过注入静压转台上工作面与下固定面之间,上工作面浮起,从而实现转轴带动旋转工件的平稳转动,该装置利用静压油将静压转台上工作面抬起,避免了静压转台上工作面与下固定面之间的摩擦,从而确保了托盘与旋转部件之间的平稳转动,提高了硅片的成片质量,以及良品率,同时减少了生产成本,适合推广。 | ||
搜索关键词: | 一种 研磨机 研磨 静压 回转 支撑 装置 | ||
【主权项】:
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