[实用新型]一种研磨机下研磨盘用静压回转支撑装置有效

专利信息
申请号: 202021681486.7 申请日: 2020-08-12
公开(公告)号: CN213616032U 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 戴鑫辉;李林;乔石;姚欢;吕勋恩 申请(专利权)人: 青岛高测科技股份有限公司
主分类号: B24B37/34 分类号: B24B37/34
代理公司: 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 代理人: 于晶晶
地址: 266114 山东省青*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型公开一种研磨机下研磨盘用静压回转支撑装置,其包括用于设置下研磨盘的旋转工件、设置于旋转工件下方的静压转台、设置在静压转台下用于承接静压油的回流盘、及穿过静压转台及回流盘与旋转工件连接的转轴,所述静压转台包括上工作面与下固定面,所述静压油通过注入静压转台上工作面与下固定面之间,上工作面浮起,从而实现转轴带动旋转工件的平稳转动,该装置利用静压油将静压转台上工作面抬起,避免了静压转台上工作面与下固定面之间的摩擦,从而确保了托盘与旋转部件之间的平稳转动,提高了硅片的成片质量,以及良品率,同时减少了生产成本,适合推广。
搜索关键词: 一种 研磨机 研磨 静压 回转 支撑 装置
【主权项】:
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