[实用新型]一种多工位单晶硅双面抛光装置有效
申请号: | 202021749233.9 | 申请日: | 2020-08-20 |
公开(公告)号: | CN213106225U | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 陈峰 | 申请(专利权)人: | 浙江众晶电子有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B27/033;B24B41/06;B24B47/12 |
代理公司: | 温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙) 33390 | 代理人: | 钱磊 |
地址: | 324302 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种多工位单晶硅双面抛光装置,包括U型支撑架、液压缸和抛光机构,所述U型支撑架的上端固定连接有液压缸,且U型支撑架的架内上部设置有抛光机构,所述抛光机构与液压缸下端伸缩杆相连接,所述U型支撑架的架内中间处连接有旋转安装架,且旋转安装架包括安装环、第一连接头、第二连接头、内环、固定条和第一定位夹具安装板。本实用新型所述的一种多工位单晶硅双面抛光装置,属于单晶硅抛光机领域,采用安装环、连接头与U型支撑架外部安装的驱动电机相连接,能够实现安装环和内环的旋转,通过内环与连接支撑架相连接;通过连接支撑架设置的连接架,方便拆卸电动推杆、定位夹具安装板,方便对连接支撑架进行检修。 | ||
搜索关键词: | 一种 多工位 单晶硅 双面 抛光 装置 | ||
【主权项】:
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