[实用新型]基材可分离的真空镀膜设备有效
| 申请号： | 202021762820.1 | 申请日： | 2020-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN212560416U | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 叶飞;刘晓萌 | 申请（专利权）人： | 无锡爱尔华光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/50;C23C16/44;C23C16/458;C23C16/455 |
| 代理公司： | 无锡盛阳专利商标事务所(普通合伙) 32227 | 代理人： | 顾吉云;黄莹 |
| 地址： | 214000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供基材可分离的真空镀膜设备，其可以获得更均匀的镀膜效果，确保镀膜面积内工艺性一致。其包括：放置待镀膜基片的基片承载盘，设置在所述基片承载盘下方的加热器，设置于所述基片承载盘上方的电磁场发生装置和工艺气体发生装置，所述基片承载盘与所述电磁场发生装置、所述工艺气体发生装置之间的区域为镀膜工艺区，其特征在于，其还包括托盘外框、升降结构，所述基片承载盘设置于所述托盘外框上端面，所述托盘外框中心部位设置中空的托举口，所述加热器面积小于所述托举口面积；所述升降结构驱动所述加热器，经所述托举口托举放置于所述基片承载盘之上的所述待镀膜基片至所述镀膜工艺区的电磁场稳定区域。 | ||
| 搜索关键词： | 基材 可分离 真空镀膜 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡爱尔华光电科技有限公司，未经无锡爱尔华光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202021762820.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
