[实用新型]一种用于化学机械研磨的清洗装置有效
| 申请号： | 202021794843.0 | 申请日： | 2020-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN213558800U | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 李武祥;程建秀 | 申请（专利权）人： | 合肥晶合集成电路股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/10 | 分类号： | B08B3/10;B08B6/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 林凡燕 |
| 地址： | 230012 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于化学机械研磨的清洗装置，包括：清洗液管道；第一电极，位于所述清洗液管道上；第二电极，位于所述清洗液管道上；负电压源，与所述第一电极和所述第二电极连接；固定结构，用于将所述第一电极和所述第二电极固定在所述清洗液管道上；其中，所述第一电极和所述第二电极分别位于所述清洗液管道的两侧，所述负电压源存储有负电荷，所述负电压源使所述清洗管道内部的清洗液呈负电势。本实用新型大幅度提高了晶圆表面颗粒和清洗液本身的去除效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 机械 研磨 清洗 装置 | ||
【主权项】：
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