[实用新型]掩模板有效
申请号: | 202021857848.3 | 申请日: | 2020-08-31 |
公开(公告)号: | CN212965743U | 公开(公告)日: | 2021-04-13 |
发明(设计)人: | 周世均;王晓龙;宋海生 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/54 | 分类号: | G03F1/54;G03F1/64;G03F1/40;G03F7/20 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 王江富 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种掩模板,其包括透光基板、吸光膜及掩模保护膜;透光基板的下侧面中间区域为图形区,外围区域为接触区域;图形区及接触区域分别覆盖有相应形状的吸光膜;图形区同接触区域之间的吸光膜断开并构成一防静电环;掩模保护膜为透明薄膜,蒙贴在一个掩模板保护膜框的下侧;掩模板保护膜框不透光;掩模板保护膜框端的形状同防静电环一致;掩模板保护膜框上端的壁厚大于或等于防静电环的线宽度;掩模板保护膜框上端对应于防静电环粘贴在透光基板下侧面,遮挡防静电环。步进‑扫描式光刻机采用该掩模板投影时可以完全消除防静电环的投影对晶圆对应图形区的线宽影响。 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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