[实用新型]涂敷、显影装置有效
| 申请号： | 202021877174.3 | 申请日： | 2020-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN213149472U | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 酒田洋司;土山正志;佐佐木庆介 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20;G03F7/30;G03F7/38;G03F7/40 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种涂敷、显影装置。针对涂敷、显影装置简化装置结构。本实用新型的涂敷、显影装置具备层叠起来的6个以上的处理模块。6个以上的处理模块包括在层叠方向上相邻的两个第1处理模块、两个第3处理模块以及两个第2处理模块。两个第1处理模块具备向基板涂敷抗蚀剂的多个涂敷处理部和在两个第1处理模块处输送基板的第1输送部。两个第2处理模块具备：多个显影处理部和多个涂敷处理部这两者中的任一者，该显影处理部对由涂敷处理部涂敷抗蚀剂并由曝光装置实施了曝光处理的基板实施显影处理；和第2输送部，其在两个第2处理模块处输送基板。两个第3处理模块具备多个显影处理部和在两个第3处理模块处输送基板的第3输送部。 | ||
| 搜索关键词： | 涂敷 显影 装置 | ||
【主权项】：
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