[实用新型]一种大批量的真空镀膜基片清洗装置有效
| 申请号： | 202021881426.X | 申请日： | 2020-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN213001539U | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 于莎莎 | 申请（专利权）人： | 镇江晶鼎光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B3/04;B08B13/00;C23C14/02 |
| 代理公司： | 苏州市方略专利代理事务所(普通合伙) 32267 | 代理人： | 李玉婷 |
| 地址： | 212000 江苏省镇江市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种大批量的真空镀膜基片清洗装置，包括超声波清洗箱、升降驱动装置和基片清洗夹具；基片清洗夹具包括清洗上板、清洗中板和清洗下板，所述清洗上板、清洗中板和清洗下板按照由上至下的顺序依次设置，清洗中板的每个“田”字格区域内均设有一组清洗槽，一组清洗槽之间设有连接通道，一组清洗槽呈蜂窝状设置，所述清洗槽内可设置基片。本实用新型的清洗夹具解决了基片分散式清洗不便的问题，使基片在清洗时也可做到规律排列、方便计数，中板设计的清洗槽彼此之间相互连通且呈蜂窝状排列，可使清洗剂更加充分地与基片接触，改善清洗效果，基片在尽可能小的活动范围内接受较全面的清洗，可避免基片活动范围过大导致基片与夹具摩擦过多。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 大批量 真空镀膜 清洗 装置 | ||
【主权项】：
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