[实用新型]一种掩膜版有效
| 申请号： | 202021934150.7 | 申请日： | 2020-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN213327796U | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 张敏;刘飞;卢刚;马昀锋;杜娟 | 申请（专利权）人： | 黄河水电光伏产业技术有限公司;青海黄河上游水电开发有限责任公司光伏产业技术分公司;国家电投集团黄河上游水电开发有限责任公司;青海黄河上游水电开发有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/14;C23C16/04;C23C16/24;H01L31/20 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰;贾珍珠 |
| 地址： | 810007 青*** | 国省代码： | 青海;63 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种掩膜版，用于制备HIBC电池的异质结非晶硅层，异质结非晶硅层包括横向呈叉指状排列的P区和N区，其中，P区与N区之间的间隔区为G区，掩膜版包括：板体，板体上设有开口，开口上方设有多个横向间隔排列的遮挡件，多个遮挡件可相对板体横向移动，每一遮挡件包括第一遮挡件和容置于第一遮挡件内的第二遮挡件，第二遮挡件可横向伸出第一遮挡件，第一遮挡件用于遮挡N区、及与N区相邻的G区，第一遮挡件和伸出第一遮挡件的第二遮挡件共同用于遮挡P区、及与P区相邻的G区。本实用新型的掩膜版，以提升掩膜版的使用性能，简化掩膜沉积工艺过程，避免由于更换掩膜板对P层区域造成的污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 | ||
【主权项】：
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