[实用新型]多腔体超低温磁控溅射镀膜机有效
| 申请号： | 202021935421.0 | 申请日： | 2020-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN212357374U | 公开（公告）日： | 2021-01-15 |
| 发明（设计）人： | 王荣福 | 申请（专利权）人： | 深圳市汉嵙新材料技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 深圳市博锐专利事务所 44275 | 代理人： | 王芳 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室，所述工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材，所述溅射腔室的数量为四个，所述冷却辊的直径大于或等于65cm，所述冷却辊的温度低于或等于‑15℃。本多腔体超低温磁控溅射镀膜机中，冷却辊直径大且温度低，大幅度提高了对来料薄膜的冷却能力，使得工艺室内能够设置更多数量的溅射腔室及阴极靶材，从而提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 多腔体 超低温 磁控溅射 镀膜 | ||
【主权项】：
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