[实用新型]一种匀胶铬版检查装置有效
申请号: | 202021950462.7 | 申请日: | 2020-09-09 |
公开(公告)号: | CN212411011U | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 李由根;李娜 | 申请(专利权)人: | 东莞市宏诚光学制品有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84 |
代理公司: | 东莞卓为知识产权代理事务所(普通合伙) 44429 | 代理人: | 齐海迪 |
地址: | 523383 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种匀胶铬版检查装置,包括固定板、两个支撑板以及与支撑板呈可转动地连接的转动轮,两个支撑板的底部均固定于固定板上,支撑板的顶部包括互成直角的第一放置边和第二放置边,两个支撑板相互平行且呈间隔地布置以形成有供转动轮安装用的安装空间,两个支撑板的第一放置边相对齐,两个支撑板的第二放置边相对齐,转动轮至少有两个,转动轮位于安装空间内,两个转动轮之一者呈可转动地安装于第一放置边并凸出于第一放置边的顶面,两个转动轮之另一者安装于第二放置边并凸出于第二放置边的顶面。本实用新型通过以上结构实现了匀胶铬版的稳固放置,同时还可以保持匀胶铬版保持洁净且避免了匀胶铬版在放置过程中发生碰撞而受损。 | ||
搜索关键词: | 一种 匀胶铬版 检查 装置 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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