[实用新型]多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机有效

专利信息
申请号: 202022004382.9 申请日: 2020-09-14
公开(公告)号: CN213172549U 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 林卫良 申请(专利权)人: 温岭市华航电子科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/56
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 代理人: 吴秉中
地址: 317500 浙江省台*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型提供了一种多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机,属于镀膜设备技术领域。它解决了现有真空镀膜机加工效率低的问题。本多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机,包括外机壳,外机壳具有中空的内腔,内腔中设置有磁控溅射机构以及与磁控溅射机构相配合的用于放置板材的移动机构,移动机构设置于磁控溅射机构的下端,且移动机构上具有上下分层且可横向移动的上移动板与下移动板,其中一块移动板与磁控溅射机构相配合用于加工时,另一块移动板用于板材的放置,外机壳的侧部设置有与移动机构相配合的可开合的移动门。本实用新型具有效率高的优点。
搜索关键词: 加工 往复 磁控溅射 真空镀膜
【主权项】:
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