[实用新型]带有集屑工作台的磁控溅射真空镀膜机有效
| 申请号： | 202022008259.4 | 申请日： | 2020-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN213172550U | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 林卫良 | 申请（专利权）人： | 温岭市华航电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人： | 吴秉中 |
| 地址： | 317500 浙江省台*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种带有集屑工作台的磁控溅射真空镀膜机，属于镀膜设备技术领域。它解决了现有真空镀膜机废屑难清理的问题。本带有集屑工作台的磁控溅射真空镀膜机，包括外机壳，外机壳内具有中空的内腔，内腔中设置有磁控溅射机构以及与磁控溅射机构相配合的工作台，工作台活动连接于外机壳上且可沿外机壳进行横向移动，工作台上具有中空的集屑腔，集屑腔内设置有可抽拉的用于收集废料的集屑板。本实用新型具有方便清理的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 工作台 磁控溅射 真空镀膜 | ||
【主权项】：
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