[实用新型]一种磁控溅射设备的换样片装置有效
| 申请号： | 202022042715.7 | 申请日： | 2020-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN213327809U | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 李长栋;魏承亚;魏茂奎 | 申请（专利权）人： | 山东沐东真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 252000 山东省聊城市*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁控溅射设备的换样片装置，包括设备主体，设备主体的内侧壁固定连接第一伸缩杆，移动板的一侧固定连接有压力板，设备主体的正面活动连接有拉门，支架的一端固定连接有放置架，放置架的一侧活动连接有样片主体，样片主体的一侧活动连接有卡板，卡板的一侧固定连接有第一弹簧，第一弹簧的一侧固定连接有第一固定板，第一固定杆的一侧活动连接有第二固定杆，第二固定杆的内部活动连接有限位杆，限位杆的一侧固定连接有第二弹簧。本实用新型通过第二弹簧的设置，能够使工人能够对设备的样片进行更换，使工人工作更加轻松便捷，通过第一弹簧的设置，能够使提高设备固定的牢固性，防止出现样片滑落的情况。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 设备 样片 装置 | ||
【主权项】：
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