[实用新型]一种用于扩大芯片之间间距的扩膜设备有效

专利信息
申请号: 202022055417.1 申请日: 2020-09-18
公开(公告)号: CN212848324U 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 沈怡东;潘建英;曹鑫银;龚凯凯 申请(专利权)人: 捷捷半导体有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;B26D1/25
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 蒯建伟
地址: 226200 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种用于扩大芯片之间间距的扩膜设备,包括外壳(15),外壳(15)内固定设置底座(1);底座(1)上依次设置升降电机(13)和支撑柱(21),升降电机(13)连接承片台(10),支撑柱(21)上设置环形的割膜轨道(11);割膜轨道(11)上设置割膜刀架(3),割膜刀架(3)上设置割膜刀(4);割膜轨道(11)通过其侧边的齿与旋转电机(2)输出轴上设置的齿轮连接,旋转电机(2)固定在中空承片台(19)内壁;中空承片台(19)上方设置中空压盖(20),中空压盖(20)内设置压盘(7),压盘(7)通过中间空的活塞杆(23)连接压盘气缸(6)。本实用新型加大芯片间距,避免芯片之间的挤压崩边。
搜索关键词: 一种 用于 扩大 芯片 之间 间距 设备
【主权项】:
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