[实用新型]等离子体气相沉积设备有效

专利信息
申请号: 202022125134.X 申请日: 2020-09-24
公开(公告)号: CN213680874U 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 张斌;李王俊 申请(专利权)人: 苏州迈正科技有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C16/54;C23C16/50
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 唐清凯
地址: 215200 江苏省苏州市吴江区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种等离子体气相沉积设备,包括至少两个依次密封对接的工艺腔室;任一所述工艺腔室的与相邻工艺腔室对接的侧壁设有开口;相邻两个所述工艺腔室中,其一设有可密封其靠近另一的侧壁的开口的阀门。上述等离子体气相沉积设备,将阀门设于工艺腔室内,故无需在相邻两个工艺腔室之间再设置阀门密封室,即两个工艺腔室可直接密封对接,从而减少相邻两个工艺腔室之间的密封结构,从而减少相邻两个工艺腔室之间的密封失效的风险。
搜索关键词: 等离子体 沉积 设备
【主权项】:
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